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ICS 71.040.40 G04 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T30701—2014/ISO17331:2004 表面化学分析 硅片工作标准样品表面 元素的化学收集方法和全反射X射线 荧光光谱法(TXRF)测定 Surface chemical analysis-Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy (ISO17331:2004,IDT) 2014-06-09发布 2014-12-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布 中国国家标准化管理委员会 GB/T30701—2014/IS017331:2004 目 次 前言 引言 IV 范围 2 规范性引用文件 3 术语和定义 缩略语 5 试剂 6 仪器设备 7 试样制备及其测量环境 校准试样的制备 9 绘制校准曲线 10 工作标准样品上铁和/或镍的收集 11 工作标准样品上所收集铁和/或镍的测定 12 精密度 13测试报告 附录A(资料性附录) 国际实验室间试验项目结果 附录B(资料性附录) 国际实验室间试验项目的GF-AAS和ICP-MS测量结果 14
GB-T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
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